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机械抛光是靠切削、资料外表塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到滑润面的抛光办法，一般运用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如反转体外表，可运用转台等辅助工具，外表质量要求高的可选用超精研抛的办法。超精研抛是选用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工外表上，作高速旋转运动。利用该技术能够达到Ra0.008μm的外表粗糙度，是各种抛光办法中较高的。光学镜片模具常选用这种办法。电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解资料外表细小凸出部分，使外表润滑。与化学抛光比较，能够消除阴极反应的影响，作用较好。电化学抛光进程分为两步：⑴宏观整平溶解产物向电解液中分散，资料外表几何粗糙下降，Ra>1μm。⑵微光平坦阳极极化，外表光亮度提高。
